真空镀膜机

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。其实每一种设备都有自己的使用寿命，比如扩散泵用的的硅油，使用寿命为两年左右，我就规定1年半把它换掉，这样作是不是浪费，我觉得不浪费，从设备服务于生产来说是值得的，老板不希望看到的是机器在生产阶段出现问题。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我们通常所说的漏气;.

2、真空机组的抽气能力不够了，油被污染或氧化了:

3、真空室内太脏放气;

4、真空室内有漏水;

5、真空管道有漏气;.

6、或者是以上几种可能都有。

出现问题首先是要判断，是不是拆卸过东西，是不是漏水?阀门打开了吗?根据现象判断原因，然后再去根据判断找问题，可能会收到---的效果。

养成---的卫生习惯

相比以前我们厂的设备是灰尘满面、油渍不堪。也许很多人都认为，设备只要正常运转就可以了，搞得再干净也是做表面工作。我可是这样认为的，一个人连表面工作都作不来，那真的还有内在、实在的工作吗?当然设备和设备周围的灰尘、油污对设备的本身的影响也是相当之大的。在集成电路制造中晶体管路中的保护层（sio2、si3n4）、电极管线等，多是采用cvd技术、pvcd技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。灰尘能产生静电，损坏电子元件;油污能使电线、水管硬化开裂，造成一些---的问题出现。---我们使

用的真空设备，还有它本身的特殊性。真空设备讲究的是-一个真空清洁度，真空清洁度越差，放气性就越大。这样使设备抽到较高的真空度所需的时间就越长。

或者---就无法抽到。这样一来就减少我们的产量，二来影响到了我们的产品的。

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真空镀膜系统

真空室

涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、弧焊接、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。

真空获得部分

在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。

真空测量部分

真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。如热偶计，电离计，皮拉尼计等。

电源供给部分

靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf)，常见的电源厂商有ae,adl,霍廷格等。

真空度对真空镀膜有什么重大影响

真空镀膜行业由于其镀膜工艺，需要抽真空，因此都连接了真空系统，真空泵因此大量应用于真空镀膜行业，真空泵过滤器也具有大量需求。

真空镀膜过程中，使用的真空度一般要求在10的负3次方上下，真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。