一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,真空镀膜系统价格,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。
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氧化物一氧化硅sio,二氧化硅sio2,二氧化钛tio2,二氧化锆zro2,二氧化铪hfo2,一氧化钛tio,五氧化三钛ti3o5,五氧化二铌nb2o5,五氧化二钽ta2o5,氧化钇y2o3,氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。
其它化合物---锌zns,---znse,氮化钛tin,碳化硅sic,钛酸---latio3,钛酸钡batio3,钛酸---srtio3,钛酸镨prtio3,硫1化镉cds等真空镀膜材料。
金属镀膜材料高纯铝al,高纯铜cu,高纯钛ti,高纯硅si,高纯金au,高纯银ag,高纯铟in,高纯镁mg,高纯锌zn,高纯铂pt,高纯锗ge,高纯镍ni,高纯金au,金锗合金auge,真空镀膜系统多少钱,金镍合金auni,镍铬合金nicr,钛铝合金tial,锌铝合金znal,铝硅合金alsi等金属镀膜材料。
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