一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,真空镀膜系统生产厂家,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---,具体可以调控的因素同上,真空镀膜系统价格,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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2、---真空度高,可达7×10-5pa,可---更高的镀膜纯净度,提高镀膜。
3、从---到工作背景真空(7×10-4pa)时间短,30分钟左右(充干燥氮气)。 系统停泵关机12小时后真空度:≤8pa。
4、整机采用柜式结构,密封性能好,防尘防水,安全。
5、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选。
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