离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。
检查真空镀膜机各操作控制开关是否在关位置。
打开总电源开关,设备送电。
低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。
安装固定钨螺旋加热子。把pvdf薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,---无任何杂质污物。
落下钟罩。
启动抽真空机械泵。
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