黑龙江真空镀膜系统「多图」

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    2023-6-8

张女士
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对于真空镀膜机必须要掌握的名词

低温冷凝泵:它是利用低温表面来凝聚气体分子以实现抽气的一种泵,是目前获得---真空1高,抽速1大的抽气泵。

冷凝泵的工作原理:主要是低温表面对气体的冷凝作用、冷捕作用及物理低温吸附作用。

低温冷凝:根据各种气体的特性,采用液---或者制冷循环---气来冷却。

冷捕集:就是不可凝气体被可凝气体捕集的现象,通常---、水蒸气、氮气、压气等气体首先形成霜,于低温表面形成吸附层,进而达到吸附其它气体的目的,低温泵抽除混合气体的效果比抽除单一效果好就是这个原因。

低温吸附:指低温表面上的吸附剂吸附气体的作用,由于吸附剂与气体分子之间的相互作用很强,故可达到气相压强比冷凝表面温度下它的饱和蒸汽压还低的水平。吸附剂通常是活性炭。

冷凝泵的抽气速率及影响冷凝泵的抽气速率与冷凝表面的面积大小有关系,经数据显示,单位冷凝表面积下的抽气速率为11.6升/秒.平方厘米,冷凝泵可以抽到10-8帕;此外粘有活性炭的吸附表面的几何形状及位置、活性炭的颗粒结构、粘结材料及粘接工艺,对抽速也有很大的影响。其次关键在于制冷机的制冷量要足够大。

真空计:真空计是真空镀膜机器上的重要组成部分,它是检测镀膜机真空度的重要手段。

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真空镀膜技术的应用领域

1.在装饰品方面

随着经济的发展和生活水平的提高,人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。

2.在刀具、模具等金属切削加工工具方面

在生活中,真空镀膜系统,我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等,这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。

(1)金黄色的,是在刀具上涂镀了tin、zrn涂层,tin是代应用广泛的硬质层材料。

(2)黑色的,是在切削工具上涂了tic、crn涂层。

(3)钴铜色的,是在刀具上镀涂了tialn涂层。

3.在建筑玻璃和汽车玻璃上

建筑玻璃有透光和隔热两个基本功能。

普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量,这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射,普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外,但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。

随着经济的发展,普通玻璃已越来越不能满足人们的要求,而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求;而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和1大限度阻止室内热量外流的要求。

在玻璃上,镀涂一层tio2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃,这种工艺在汽车玻璃上有---的应用。

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真空镀膜技术的应用领域

在平板显示器中

所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜,而且,几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ito膜,以满足透明电器的要求。可以毫不---的说,没有薄膜技术,就没有平板显示器件。

在太阳能利用方面

当需要有效地利用太阳热能时,就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。由于太阳辐射与热辐射光谱在波段上有差异,因此,为了有效地利用太阳热能,就必须考虑采用具有波长选择特性的吸收面。

理想的选择吸收面,是太阳辐射光谱的波段(可见光波段)吸收率(α)为1,在热辐射波段(红外波段)辐射率(ε)为0。

在防伪技术中

防伪膜种类很多,从使用方法可分为反射式和透射式;从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。

在飞机防护涂层方面

飞机的钛合金紧固件,原来采用电镀方法镀镉。但在镀镉中含有氢,所以在飞行过程中,受到---、海水的腐蚀,镀层上容易产生“镉脆”,甚至引起“---”。

1964年,采用离子镀方法在钛合金紧固件上镀铝,解决了飞机零件的“镉脆”问题。在离子镀技术中,由于给工件施加负偏压,可以形成“伪扩散层”、细化膜层组织,因此,可以---提高膜层的耐腐蚀性能。

在光学仪器中

人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪,以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等,它们都离不开镀膜技术,镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

在信息存储领域中

薄膜材料作为信息记录于存储介质,有其得天独厚的优势:

由于薄膜很薄,可以忽略涡流损耗;磁化反转---迅速;与膜面平行的双稳态状态容易保持等。

为了更精密地记录与存储信息,必然要采用镀膜技术。

在传感器方面

在传感器中,多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说,---敏感的半导体材料。此外,其中,大多数利用的是半导体的表面、界面的性质,需要尽量增大其面积,且能工业化、格制作,因此,采用薄膜的情况很多。

在集成电路制造中

晶体管路中的保护层(sio2、si3n4)、电极管线等,多是采用cvd技术、pvcd技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见,气相沉积是制备集成电路的技术之一。

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