真空镀膜系统

真空镀膜系统主要构成

1.真空室

涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。

2.真空获得部分

在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。

3.真空测量部分

真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。

4.电源供给部分

靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf)。

5.工艺气体输入系统

工艺气体，如氮气(n2)、氢气(h2)、氧气(o2)等，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。

6.机械传动部分

涂层要求周边必须厚度均匀一致，因此，在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。

7.加热及测温部分

涂层设备一般有不同位置的加热器，用热电偶测控温度。但是，由于热电偶装夹的位置与工件位置不同，温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度，有很多方法，可以在工件上装高温试纸或热偶计。

8.离子蒸发及溅射源

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。

9.水冷系统

一般由冷水塔，冰水机，水泵等组成。

10.工控系统

真空镀膜系统

电子束蒸发源蒸镀法

将蒸发材料放入水坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，---适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。

依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形，真空镀膜系统，直，e型和空心阴极电子等几种。

环形是由环形的阴极来发射电子束，经---和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。

真空镀膜系统

真空镀膜在日常生活中非常常见，就是一个真空系统也比较复杂，现在，我们一起去探索一下真空镀膜的设备秘密吧。

真空镀膜设备不是单一的设备，而是设备组，它是由真空系统、蒸发系统，蒸发辅助系统，加热系统，整机的电气与自动化控制系统共同构成，今天，我们主要讨论的是真空镀膜设备中的真空系统。真空泵油雾过滤器也被运用在真空系统当中，使得真空镀膜工艺排放无污染，节能。

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