真空镀膜多少钱

真空镀膜系统主要构成

1.真空室

涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。

2.真空获得部分

在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。

3.真空测量部分

真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。

4.电源供给部分

靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf)。

5.工艺气体输入系统

工艺气体，如氮气(n2)、氢气(h2)、氧气(o2)等，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。

6.机械传动部分

涂层要求周边必须厚度均匀一致，因此，在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。

7.加热及测温部分

涂层设备一般有不同位置的加热器，用热电偶测控温度。但是，由于热电偶装夹的位置与工件位置不同，温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度，有很多方法，可以在工件上装高温试纸或热偶计。

8.离子蒸发及溅射源

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。

9.水冷系统

一般由冷水塔，冰水机，水泵等组成。

10.工控系统

真空镀膜基础知识

电阻蒸发源蒸镀法

采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，---等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。

利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用---，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。

电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的高温度有限，加热器的寿命也较短。近年来，真空镀膜多少钱，为了提高加热器的寿命，---已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本---，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。

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