一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4. 真空度
5. 镀膜时间，厚度大小
组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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真空室
涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、弧焊接、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。
真空获得部分
在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。
真空测量部分
真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。如热偶计，电离计，皮拉尼计等。
电源供给部分
靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf)，常见的电源厂商有ae，adl，霍廷格等。
真空度相对来说比较稳定，但是也会受到一些因素的影响，比如---压，但是安装真空泵过滤器是不会对真空度产生影响。
关键对镀膜加工工艺的危害，不管哪些镀膜方法，真空镀膜，真空度越高亦意味着炉内含有的杂气分子越少，那样镀膜膜层成份就更趋于你要想的占比，简易的说便是纯净度及结晶体情况更具精密性。
另外，针对镀膜而言，都有加温这一基本步骤，较高的真空度能够避免板材表层空气氧化或渗氮，对结合性有非常大的协助。
真空镀膜工艺对真空泵的要求较高，同时，对真空泵过滤器也具有较高要求，因此推动真空泵过滤器的发展进步。
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