1.真空室
涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，黑龙江真空镀膜，不锈钢材料制造、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。
2.真空获得部分
在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，真空镀膜，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。
3.真空测量部分
真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。
4.电源供给部分
靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf)。
5.工艺气体输入系统
工艺气体，如氮气(n2)、氢气(h2)、氧气(o2)等，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。
6.机械传动部分
涂层要求周边必须厚度均匀一致，因此，在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。
7.加热及测温部分
涂层设备一般有不同位置的加热器，用热电偶测控温度。但是，由于热电偶装夹的位置与工件位置不同，真空镀膜系统，温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度，有很多方法，可以在工件上装高温试纸或热偶计。
8.离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。
9.水冷系统
一般由冷水塔，冰水机，水泵等组成。
10.工控系统
真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成，排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。本公司从事真空镀膜设备的研发与生产拥有经验丰富的技术团队及的售后服务队伍为您解决设备在使用过程中遇到的任何问题。
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1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100a），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10a甚至1a的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，sitio3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是sitio3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，真空镀膜生产厂家，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
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