




随着微电子工业的发展,---规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大,要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高,对气体中杂质和露1点要求---严格,需要达到ppb、ppt级,尘埃粒径求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。
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主要由气源切换系统、管道系统、调压系统、用气点、监控及报警系统组成。对于一些易1燃易1爆气体,如氢气等,可能在设计和施工过程中稍有差异,必须加入气体回火防止器等安全控制装置。
阀门是在流体系统中,用来控制流体的方向、压力、流量的装置,是使配管和设备内的介质(液体、气体、粉末)流动或停止并能控制其流量的装置。阀门是管路流体输送系统中控制部件,用来改变通路断面和介质流动
方向,具有导流、截止、节流、止回、分流或溢流卸压等功能。
气体管路控制系统可以用于管理控制气体供应,包括流量,压力,开关等,同时带有泄漏报警1灯功能,能够有效保护用气安全。
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目前大多数试验室中的各种分析仪器如气相色谱仪、气相色谱质谱仪、液相色谱质谱仪、原子吸收分光光度计、原子荧光光度计、等离子发射光谱仪、电感耦合等离子质谱仪等都需要连续使用高纯载气和燃气,因此试验室的安全、连续、稳定运行需要我们考虑如何将这些气体供到各试验室中放置的分析仪器。
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